美国松口了?ASML宣布光刻机对华正常出货,三手准备刻不容缓

光刻机被誉为工业皇冠上的明珠,是芯片制造前道工序中必不可缺的核心设备,全球能生产该设备的只有四家,分别是我国的上海微电子、日本的尼康和佳能、以及荷兰的ASML。但在中高端光刻领域,比如DUV、EUV光刻机,ASML则是一家独大,几乎垄断了全球市场。

不过,ASML却并不能做到完全的技术自主,其产线上糅合了许多他国的尖端技术与元器件,其中仅美国的技术配件占比就超过了20%。也正是由于这个原因,美国严格限制着光刻设备的自由出口,将该设备视作遏制我国芯片产业发展的一把“利刃”。

然而,近日ASML中国区总裁沈波却公开表态:除了EUV光刻机之外,其他产品均可正常对华出口。也就是说,可自由出货的产品中包含了DUV光刻机。

要知道,虽然没有EUV高端,但使用DUV光刻机就足以完成14nm/28nm及以上成熟工艺芯片的制造,这对正处爬坡阶段的国产芯片产业而言,将会起到巨大的推动作用。以老美对待中企的一贯态度,这显然不符合实际情况。

然而,ASML方面如今已公开表态,那么,这是否意味着美国已经松口了呢?

其实从两方面就可以看出来,在今年3月份的时候,ASML就与中芯签订了一份价值12亿美元的光刻采购合同;而在上个月,美商务部传出消息,已向华为、中芯国际分别发放了113份、118份供货许可,总价值1000多亿美元。

由此可见,在DUV光刻机对华出口一事上,ASML的确已经拿到了相关许可,这意味着,中企又一次获得了阶段性的胜利。

至于美为何突然松口,原因很简单,因为芯片断供是把双刃剑,很多美企以及使用美技术的企业都因无法自由出货而损失惨重,而且正如ASML所忠告的那样:不卖给中国芯片,只会加速他们自给自足的步伐,也许三年之后,他们就将掌握包括光刻机在内的所有尖端技术。

不过,我们仍不能盲目乐观,对于DUV光刻机可自由出货一事,必须要做多手准备。

一方面是根据市场需求占比来进行酌量采购。上海微电子的浸没式光刻机距离正式落地已经不远了,也就是说,我们在采购ASML公司DUV光刻机的同时,必须要给上海微电子留有足够的市场空间。

按照海外企业的作风,我们难以突破的设备,比如EUV光刻机,他们会严格限制;而当我们一旦即将完成突破的设备,比如DUV光刻机,他们就会大规模的出口,从而达到快速变现且遏制国产企业生存空间的双重目的。

因此,我们必须要分清,这些出口许可哪些是“蜜糖”,哪些是“砒霜”。

另一方面,有了DUV光刻设备的支持,我们首先要加快在中低端芯片领域站稳脚跟,将现有的技术成熟化;其次,把从ASML采购的DUV设备视作研发模板,对国产光刻设备进行技术升级与完善,从而加快国产光刻机的落地与量产。

买来的东西用着始终不踏实,只有把核心技术掌握在自己手中,才算是真正拥有。

另外,正如倪光南院士所说:核心技术是买不来、换不来、求不来的。

美国之所以授权DUV设备的出口许可,是因为它已拥有了相应的制造实力。因此,在EUV这项高精尖光刻设备方面,我们也要加大研发脚步,当我们完全掌握了EUV的核心技术之时,他们迫于市场压力,便会主动与我们寻求合作。